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新型宽温低铬镀铬添加剂介绍
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目前国内开发的室温低铬镀铬添加剂品种繁多，尽管都能基本实现室温镀铬，但是普遍都存在着工艺稳定性能不佳的缺点，如深镀力与均镀力并不是太好，对设备腐蚀性较大，易积累杂质，对工作电流密度范围的限制也较多。
我们在系统总结研究国际国内各型镀铬添加剂特点和镀铬动力学基本原理的基础上，提出我们独特的全新电镀机理，研究开发出第三代新型镀铬添加剂。其具有如下特点：
ÿ 超强深镀，克服了普遍之深镀、均镀力不佳、低区腐蚀等弊害，对20mm深孔也能良好上铬；
ÿ 极大降低装饰铬成本，允许亮铜打底直接镀装饰铬，对塑料件镀铬效果特佳；
ÿ 工作温度低，10℃即可良好工作；
ÿ 电流效率比通常之镀铬添加剂提高20个百分点；
ÿ 起镀电流极低，上镀效果几乎与镀锌镀锡一样容易，操作简便，对设备没有特殊要求；
ÿ 长期连续使用工艺稳定好，镀液维护简易；
ÿ 工作电流宽，不易出现零件烧焦的缺陷；
ÿ 镀铬出光快，表面越镀越亮，可以达到全光水平；
ÿ 工作铬酐浓度低，环保效益良好；不使用硫酸，镀液管理维护方便；
ÿ 本添加剂与市面上流行的各种宽温低铬添加剂兼容性好，可以不作任何处理即可方便切换。
（同时本中心也提供第二代镀铬添加剂产品，用量2g/L）
※新世纪高效型TCR-21 最新成果，上镀快，深镀力、均镀力最好，要求含锡或锑的铅阳极。
※TCR-21添加剂工艺配方介绍（推荐加：铬雾抑制剂F-53B，0.02-0.04g/l）
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材料名称 |
CrO3 g/l |
Cr2O3 g/l |
TCR-21 g/l |
Dk A/dm2 |
补加量 g/kgCrO3 |
工作温度 ℃ |
阳极 |
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材料浓度 |
100 (80-180) |
<2 |
25-30 |
1-80 |
2 (TCR-21) |
5-70 |
含锡或锑 10-12%的铅板 |
注：1.对旧槽的转换可根据分析数据调整铬酐含量到工艺范围，其他组分按上表添加；直接加TCR-21进入镀液，不必预处理；
2.对以前使用其他品牌添加剂的镀铬溶液一般可以直接切换为本中心产品。但切换前应用霍尔槽验证；
3.切记：配槽请采用去离子水。
